光刻機是生產制造芯片的主要設備，沒有先進的光刻機，自然就無法生產制造先進制程的芯片。
在光刻機廠商中，ASML的技術最為先進，幾乎占領了中高端市場，尤其是ASML研發制造的EUV光刻機，其是生產制造Seven 納米及以下芯片的必要設備。
雖然用DUV光刻機也能夠生產制造Seven 納米，但其存在成本高、工藝復雜以及良品率低等問題，所以在Seven 納米及以下芯片上，基本上都是采用EUV光刻機。
但EUV光刻機在2015年被研發制造出來以后，其產能一直都比較低，目前才總共出貨才100臺，并且一半以上都交付了臺積電。數據顯示，三星也想要更多EUV光刻機，無奈ASML根本無法生產出來，并且，ASML還積壓了幾十億歐元的EUV光刻機訂單。也就是說，從EUV光刻機被制造出來開始，其就面臨供不應求的問題，而且，ASML的產能沒有大幅度提升。
但就在近日，外媒傳來消息，ASML突然大提速，加速生產制造更多EUV光刻機。
消息稱，ASML預計在2021年生產制造45臺EUV光刻機，僅后半年就將交付25臺；2021年生產制造55臺；2022年則是60臺。相當于是3年生產160臺EUV光刻機。
要知道，在2019年ASML僅生產制造了26臺EUV光刻機，而2020年生產制造了30臺EUV光刻機，雖然產能也在逐年提升，但產能提升幅度不大。進入2021年后，尤其是進入2021年后半年，ASML才突然提速EUV光刻機的產能，這至少有三方面的含義。
首先，EUV光刻機需求太大了，不提速不行了。
據悉，三星明確表示想要更多EUV光刻機，結果因為ASML產能的問題，其在韓國投資2億美元建設EUV光刻機再制造工廠。另外，臺積電和英特爾都積極擴大芯片產能，尤其是先進制程芯片的產能，這自然需要更多EUV光刻機。再加上，ASML已經積壓了幾十億歐元的EUV光刻機訂單。
也就是說，巨大的EUV光刻機需求以及積壓的訂單，已經讓ASML不得不提速生產了。
其次，E技術正在普及。
EUV光刻機原本就用于非儲存芯片的生產制造，簡單就是說用于生產高通、蘋果、AMD以及華為海思廠商等Seven芯片及以下制程的芯片。如今，EUV光刻機也開始用于儲存芯片的制造，像三星、SK以及海力士等儲存芯片企業也開始用EUV光刻機進行制造。
不僅如此，其還將EUV應用層從1提升到5，這就意味著其需要更多的EUV光刻機。關鍵是，生產5nm等非儲存芯片，每個EUV層面僅需要一臺EUV光刻機，但生產制造16nm以下的儲存芯片，每個EUV層面需要1.5到2臺EUV光刻機。
也就是說，無論是生產儲存芯片還是非儲存芯片都在用EUV光刻機，這說明EUV技術正在普及，自然就需要更多EUV光刻機。
最后，ASML提速也是為了實現自由出貨。
EUV光刻機是ASML營收和利潤的主要貢獻者，畢竟其售價高，單臺售價是DUV光刻機的好幾倍。但是，ASML的EUV光刻機卻不能自由出貨，盡管ASML多次申請許可，甚至還發出了警告，結果依舊沒有實現。
如今，EUV技術正在普及，儲存芯片和非儲存芯片的生產制造都在使用EUV光刻機，而ASML加速提升EUV光刻機的產能，自然能夠加速EUV技術的普及。
也就是說，EUV技術普及和大量的EUV光刻機被生產制造出來，ASML或許就能夠實現自由出貨，因為普及的技術就不再是最先進的技術了。
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